 Le soluzioni chimiche liquide sono il metodo preferito per l'etching e la pulizia dei wafer in molte lavorazioni di semiconduttori. Le applicazioni di wet bench, CMP e acqua calda deionizzata offrono una sfida, dati gli ambienti potenzialmente contaminanti per i wafer e le variazioni di lavorazione che possono determinare difetti e problemi di sicurezza. Per rispondere alle esigenze delle applicazioni bagnate (wet process), Watlow ha sviluppato una famiglia di componenti termici per le applicazioni con acido, acqua, CO2, aria e solventi. La tecnologia di riscaldamento a film spesso su quarzo, per la sua rapidità di risposta, pulizia e bassa temperatura esterna, è il fondamento di ciò che sta rapidamente diventando il metodo preferito nell'industria per il riscaldamento delle sostanze chimiche. Il riscaldatore UNIVERSAL SOLVENT di Watlow offre strutture esterne NEMA 7 e sistemi di raffreddamento ridondanti che possono essere incorporati per avere la massima sicurezza. Gli scambiatori termici RAPID RESPONSE e i riscaldatori ad aria STARFLOW vengono usati per riscaldare i gas per la pulizia e l'essiccazione dei wafer. Queste soluzioni di riscaldamento e controllo possono essere progettate e fornite come sottosistemi per le applicazioni OEM.
Prodotti Collegati
- Moduli riscaldatori a film spesso su quarzo
- Riscaldatori UNIVERSAL SOLVENT
- Riscaldatori VERSALINE
- Scambiatori termici elettrici RAPID RESPONSE
- Riscaldatori d'aria e azoto (N2) STARFLOW
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